报告题目

面向亚10纳米分辨的团簇光刻胶

报告人

张磊 教授

报告人单位

南开大学

报告时间

2025年11月14日（星期五）16:00

报告地点

高新校区3号楼205会议室

主办单位

精准智能化学全国重点实验室

报告摘要

随着半导体技术的发展，当前芯片制造已经进入极紫外(EUV)光刻时代，而与之配套的EUV光刻胶也成为学术界和产业界共同关注的焦点。其中，以锡氧簇为代表的团簇光刻胶，因其具有高EUV光子吸收效率和纳米级均一尺寸，被认为是新一代EUV光刻胶最具前景的材料技术路线之一。报告人将介绍其近年来在高性能团簇光刻胶方面的研究工作，主要内容包括EUV光刻胶的发展及挑战，光刻活性团簇材料的可控合成策略构建、结构设计创新与光刻性能调控等。

报告人简介

张磊，2004年本科毕业于南京大学化学系，2009年获中国科学院福建物构所博士学位。2009年11月至2014年8月，分别在爱尔兰都柏林大学圣三一学院和德国慕尼黑工业大学从事博士后和洪堡学者研究。2014年9月至2022年8月任中国科学院福建物质结构研究所研究员，2022年8月至今任南开大学电子信息与光学工程学院教授。研究方向为先进光刻材料，发表第一/通讯作者学术论文110余篇，申请国内外专利20余项，主持国家基金委重大研究计划集成、优青等项目。曾入选天津市青年科技人才、中国科学院上海分院第八届杰出科技创新人才等。