报告题目

面向0.55高数值孔径光刻技术的EUV光刻胶材料

报告人

罗锋 教授

报告人单位

南开大学材料科学与工程学院

报告时间

2025年7月9日（星期三）15:30

报告地点

物质科研楼B804会议室

主办单位

精准智能化学全国重点实验室

报告摘要

目前生产用 EUV 光刻胶基于聚合物的化学放大光刻胶 (CAR)，在 32 nm 间距以下，使用0.33 NA 双重曝光，但带来工艺复杂性、成本增加和设计规则限制。0.55 NA所需光刻胶厚度20nm，这将扩大线边粗糙度和缺陷，给良率和通量带来了限制和挑战，而金属氧化物光刻胶(MOR) 是一个高NA新平台。报告系统介绍了分子团簇MOR材料的溶液合成与物理沉积方法以及其在极紫外光刻和电子束曝光条件下的评估。

报告人简介

罗锋，男，现任南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院双聘讲席教授，先后入选欧盟玛丽居里学者、西班牙杰出青年基金、西班牙 I3 杰出教授、第十五批国家重大人才项目等。目前担任上海光源用户委员会委员，中国感光学会光刻材料与技术专业委员会委员。研究方向包括极紫外光刻的光刻胶合成与评估、极紫外光刻（曝光/检测）。